ガスレビュー GAS REVIEW

EUVは水素がお好き？

錫液滴を守る用途、10㎥／月以上の消費量か、台湾、韓国などで誕生

　次世代半導体リソグラフィ技術であるEUV（Extreme Ultraviolet Lithography）露光装置に大量の水素が使われるようだ。用途としては、EUVでは溶解した錫（Sn・すず）の液滴にCO₂レーザを照射、超微細なEUVを発光させる際、錫液滴の雰囲気ガスとして大量に流されるのである。水素消費量は10万㎥／月以上と推定される。