No.927 2020年01月01日
エレクトロニクスガス最前線
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EUVは水素がお好き?
錫液滴を守る用途、10㎥/月以上の消費量か、台湾、韓国などで誕生
次世代半導体リソグラフィ技術であるEUV(Extreme Ultraviolet Lithography)露光装置に大量の水素が使われるようだ。用途としては、EUVでは溶解した錫(Sn・すず)の液滴にCO₂レーザを照射、超微細なEUVを発光させる際、錫液滴の雰囲気ガスとして大量に流されるのである。水素消費量は10万㎥/月以上と推定される。
No.927号(2020年01月01日号)
