ガスレビュー
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No.863 2017年05月01日

市場動向
3

アセチレンの希望の星、真空浸炭向け需要

IHI機械システムの基本特許2016年期限切れで炉メーカー群雄割拠時代に突入

アセチレン需要は溶断分野では低落傾向を辿っているが、ここにきて唯一好調な動きを見せているのが、真空浸炭向け需要である。この要因は、IHI機械システム(元日本ヘイズ)が取得していた真空浸炭にアセチレンを利用する基本特許が2016年に期限切れとなったことである。
 自動車部品を中心に真空浸炭炉にアセチレンを使う技術は高い評価を受けてきた。しかし、これまでは一社独占であったため、最終ユーザーとしては技術やコストの比較対象が出来ないことから一定の導入件数に止まってきた。仕方なくエチレンやLPガスなど他の炭化水素系ガスを使用せざるを得なかった。

No.863号(2017年05月01日号)

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