ガスレビュー
GASREVIEW Articles

No.927 2020年01月01日

エレクトロニクスガス最前線
3

EUVは水素がお好き?

錫液滴を守る用途、10㎥/月以上の消費量か、台湾、韓国などで誕生

 次世代半導体リソグラフィ技術であるEUV(Extreme Ultraviolet Lithography)露光装置に大量の水素が使われるようだ。用途としては、EUVでは溶解した錫(Sn・すず)の液滴にCO₂レーザを照射、超微細なEUVを発光させる際、錫液滴の雰囲気ガスとして大量に流されるのである。水素消費量は10万㎥/月以上と推定される。

No.927号(2020年01月01日号)

当社発行の書籍のご案内
ページの先頭へ