ガスレビュー
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No.881 2018年02月01日

市場動向
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電子デバイスは革命期を迎えた!

3D-NANDに続き3DX、MRAM、メトロサークなど次々生まれる新技術

NAND型フラッシュメモリが半導体集積回路の3D化を切り拓いたが、同時代的に3DXPoint、MRAM、MetoroCirc(メトロサーク)など新しい電子デバイス技術が開発され、ガスのアプリケーションも広がりそうだ。
 3D‐NAND型フラッシュメモリは現在48層が量産されているが、今後96層と高層化へ向かうとされている。六弗化タングステンやCF4、一酸化炭素、ジボランなど既存材料ガス需要の拡大が起きているとともにプロピレンやアセチレンなど新しい高純度ガス利用が始まっている。電子回路においてもプリント基板などで3D実装化が進み、ドライエッチング技術が導入され、CF4などエッチングガスの利用が起きている。
 新たなデバイス技術でどのようなガスが使われるか、現時点では明らかには見えていないが、既存材料ガスをうまく利用しながらプロセス開発されるとみられる。

No.881号(2018年02月01日号)

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